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第402章 eda软体被卡脖子江辰五天便写出来了能画1n晶片的（第1页）

这一刻。

全网都在吹国產晶片崛起，吹3nm吊打国外7nm，吹江神牛逼。

江辰本人对这些喧囂倒是没怎么关注。

3nm晶片流片成功之后。

他把后续的测试和优化工作交代给曹所长他们，就回了燕北大学。

3nm晶片对他来说，確实不算什么。

性能虽然不错，但跟前世的3nm晶片比起来，强不了太多。

他的目標，还是1nm晶片。

1nm光刻机都造出来了，不搞1nm晶片那不是暴殄天物？

但问题是……

要製造出1nm晶片，可不是简单的事。

晶片製造，分为三个步骤。

第一步，设计晶片。

由专业晶片设计师，依靠自己的技术底蕴进行设计，这一步反而是最简单的。

第二步，使用顶尖的eda软体画图。

eda软体。

全称电子设计自动化软体。

说白了就是晶片图纸生成器，能生成晶片图纸。

没有它，设计师脑子里的架构、逻辑、电路，全都没法变成光刻机能识別的版图。

这一步，才是真正卡脖子的地方。

目前全球eda市场，基本被三家巨头垄断……

灯塔国的synopsys（新思）、同样来自灯塔国的cadence（楷登），还有被西闷子收购的mentor（明导）。这三家加起来，占了全球市场份额的九成以上。

做高精尖的手机晶片，只能用这几家的软体，没有替代品。

国產eda软体在这一块，一直是短板。

別说1nm了。

连5nm，7nm的eda工具都还不成熟。

这次能做出3nm晶片，在生成晶片图纸时用的也是人家的eda软体。

第三步，用光刻机將晶片製造出来。

这一步，反而是以前被卡得最死的，现在已经被江辰搞定了。

所以现在的情况是：

1nm光刻机有了，但1nm晶片设计不行，eda软体也不行。

目前能设计生產出3nm晶片，已经是雷布斯、徐承东等人晶片设计的极限了。